以氦為示漏氣體的真空質(zhì)譜檢漏儀，是一種真空檢漏中的最高靈敏度、最普遍應(yīng)用的檢漏裝置，由真空系統(tǒng)、離子源、電子線路、接收器、分析器及其它電氣部分所構(gòu)成。

目前，氦質(zhì)譜檢漏裝置多是磁偏轉(zhuǎn)型的。本文將以諾益180°磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀裝置為例進行其主要參數(shù)的簡述。

1、清除時間、反應(yīng)時間的測定

清除時間與反應(yīng)時間可以表征檢漏儀的動態(tài)特性。通常是規(guī)定氦質(zhì)譜檢漏儀的清除時間與反應(yīng)時間要小于3s。清除時間與反應(yīng)時間與檢漏裝置的真空系統(tǒng)的抽速、體積以及流導等抽氣系統(tǒng)參數(shù)所密切相關(guān)，也受離子流放大器等電子學線路的時間常數(shù)所影響。若檢漏裝置中含有能吸收或放出氮氣的零件或材料，也會影響清除時間與反應(yīng)時間的測定。當輸出指示與漏率為非線性關(guān)系時，會導致清除時間與反應(yīng)時間的測定出現(xiàn)誤差。

2、工作真空、極限真空與節(jié)流閥處的抽速

在氦質(zhì)譜檢漏儀的使用和選擇時，需留意極限真空、工作真空及節(jié)流閥的抽速，均為裝置的重要參數(shù)。

在檢漏時，被檢設(shè)備有可能存在漏氣，也會有出氣，若不采用輔助真空抽氣系統(tǒng)，則被檢設(shè)備的漏氣與虛漏的總氣流量就要全部通過氦質(zhì)譜檢漏儀的檢測。

越高的工作壓力，在節(jié)流閥處會有越大的抽速，檢漏裝置就越能在惡劣條件下適應(yīng)，而后進行檢漏，這對大真空器件的檢漏尤其需要重視。

比較小的真空器件，只適用于去氣較好的、小型的裝置檢漏。裝置的工作壓力不應(yīng)設(shè)計太低，因為在檢漏裝置運轉(zhuǎn)時，要達到較低的工作壓力是需要話比較長的時間的。一般工作壓力選擇在10?3Pa-10?2Pa的壓力范圍內(nèi)。

在利用氦質(zhì)譜檢漏儀進行真空鍍膜檢漏時，若質(zhì)譜室中壓力過低，需要利用針閥將氣量放入，使質(zhì)譜室的壓力達到工作壓力值。放入氣量越大，裝置此氣體濃度以及儀器靈敏度就越高，越有利于檢漏。進行很大的出氣和漏氣的被檢真空室的檢漏時，節(jié)流閥抽速與工作壓力也是越大越好。因為此時必須通過輔助真空系統(tǒng)來起分流作用，使其檢漏靈敏度降低，用以幫助儀器抽氣。但節(jié)流閥抽速與工作壓力越大，輔助真空裝置的分流作用則會越小，也會降低一點檢漏的靈敏度。