真空鍍膜設(shè)備中用于殘余氣體分析的質(zhì)譜儀可以用H?、He、Ar等作為示蹤氣體進行泄漏檢測，但這些泄漏檢測儀的泄漏檢測靈敏度不同。自20世紀40年代以來，質(zhì)譜儀在泄漏檢測中的應(yīng)用進一步促進了泄漏檢測技術(shù)的發(fā)展。

對氦質(zhì)譜檢漏儀的評價需要充分了解其主要性能指標。靈敏度是氦質(zhì)譜檢漏儀的主要參數(shù)。由于世界各國對氦質(zhì)譜泄漏檢測儀靈敏度的定義不一致，在中國，氦質(zhì)譜泄漏檢測儀的靈敏度基本上用最小可檢漏率來表示。

范圍在10-6 mbar I/s以下的漏率只有氦檢漏儀才能精確測量到

氦質(zhì)譜檢漏儀的最小可檢漏率（靈敏度），指的是在檢漏裝置在處于一個最佳的工作條件下（示漏氣體采用的是一個大氣壓的純氦），做“動態(tài)檢漏”時能檢出的最小漏孔的漏率。

1、最佳工作條件。

指被檢鍍膜設(shè)備部件的材料出氣很少，且沒有較大漏孔；檢漏裝置本身的參數(shù)調(diào)整到最佳工作狀態(tài)等。

2、動態(tài)檢漏。

指不用累積法進行檢漏，檢漏裝置本身的真空抽氣系統(tǒng)仍正常進行抽真空，裝置的反應(yīng)時長小于3s，3s當中的抽氣系統(tǒng)的時間常數(shù)是小于一秒的；

3、最小可檢。

指其信號是本底噪聲的兩倍；

4、漏孔的漏率。

指干燥空氣（100kPa的壓力）經(jīng)漏孔通向真空端（遠遠低于100kPa的壓力）的漏率。

對氦分壓變化有反應(yīng)的氦質(zhì)譜檢漏儀，為表征這種反應(yīng)特性，最好給出檢漏裝置的最小可檢濃度，即濃度靈敏度。所謂檢漏裝置的“濃度靈敏度”，指處在工作壓力下（工作壓力一般為10?2Pa~10?3Pa）的質(zhì)譜室，使用該裝置可檢示的大氣中的最小氦濃度的變化。而鍍膜設(shè)備的氦質(zhì)譜檢漏儀中的“最小可檢濃度”則為信號與裝置噪聲比為一或二時，當中氦的濃度。

安徽諾益NHJ系列氦質(zhì)譜檢漏儀**度高，響應(yīng)速度快，安全性高，適應(yīng)度廣，小巧便攜，方便移動，無論是在漏點定位還是在泄漏測試應(yīng)用，都具有獨特優(yōu)勢，關(guān)注氦質(zhì)譜檢漏相關(guān)技術(shù)，歡迎交流!